Explore les techniques de traitement des films minces, y compris les interactions CVD, ALD et plasma, en mettant l'accent sur leurs avantages et leurs applications.
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Explore les techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour le dépôt de couches minces en nanofabrication, en abordant des problèmes tels que la diffusion du métal et le contact approprié du métal.
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Couvre l'analyse du formalisme et de la criticité des réacteurs nucléaires, en mettant l'accent sur les équations mathématiques et la stabilité des réacteurs.
Explore les algorithmes de résolution de problèmes pour la conception et l'analyse des réacteurs chimiques, en mettant l'accent sur l'approche CRE et les différentes configurations des réacteurs.
