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Publications associées (13)

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Leveraging wafer-level manufacturing process limitations to increase large scale fused silica microlens array uniformity

Wilfried Noell, Toralf Scharf, Jeremy Béguelin, Raoul Kirner

The wafer-level production of Fused Silica microlens arrays is limited by systematic process non-uniformities. The common molten resist-reflow process with subsequent dry-etching allows for manufacturing of microlens arrays on 200 mm wafers. A thorough pro ...

SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING2019

Spatial coherence properties of an LED-based illumination system for mask-aligner lithography

Hans Peter Herzig, Wilfried Noell, Toralf Scharf, Johana Bernasconi, Raoul Kirner

A high-power LED-based illumination system has been developed as a replacement for the mercury arc lamps used in mask-aligner lithography. LEDs are arranged in a grid array and placed in the entrance aperture of individual reflectors. Those reflectors decr ...

SPIE2019

Computational rule-based approach for corner correction of non-Manhattan geometries in mask aligner photolithography

Wilfried Noell, Toralf Scharf, Chen Yan, Raoul Kirner, Andreas Vetter

In proximity mask aligner photolithography, diffraction of light at the mask pattern is the predominant source for image shape distortions such as line end shortening and corner rounding. One established method to mitigate the impact of diffraction is opti ...

2019