Matthias Van Gompel

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Publications associées (1)

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The Influence of Microstructure on Nanomechanical and Diffusion Barrier Properties of Thin PECVD SiOx Films Deposited on Parylene C Substrates

Yves Leterrier, Ivo Furno, Matthias Van Gompel, David Framil Carpeno

Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) was used to deposit SiOx thin films of varying thicknesses on parylene C substrates, using hexamethyldisiloxane (HMDSO) as a precursor. The microstructure of SiOx coatings was analyzed using X-ray photoemis ...

2019

Publications associées (1)

The Influence of Microstructure on Nanomechanical and Diffusion Barrier Properties of Thin PECVD SiOx Films Deposited on Parylene C Substrates

Yves Leterrier, Ivo Furno, Matthias Van Gompel, David Framil Carpeno

2019