Publication

Structure and electronic properties of AlCrOxN1-x thin films deposited by reactive magnetron sputtering

Alireza Karimi, Emad Oveisi, Hossein Najafi
2014
Journal Articles

Résumé

In this study, the main attempt is devoted to investigating the microstructure and electronic properties of AlCrOxN1 - x films in a wide range of oxygen concentrations from 0 to 1. These oxynitride films were deposited by pulsed DC magnetron sputtering from Al55Cr45 targets. Our results showed that films with x = O/(O + N) < 0.6, exhibit a cubic (B1) lattice with a well-developed columnar structure. The incorporation of oxygen into the films without any oxide segregation results in the formation of a substitutional AlCrOxN1 - x solid solution and material system behaves like nitrides electronically. In the range of oxygen contents from 0.6

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https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/ea47f13e-beaa-4896-8b47-8720712f826f

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Alireza Karimi, Emad Oveisi, Hossein Najafi
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Corindon

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Matière amorphe

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Sputter deposition

Sputter deposition is a physical vapor deposition (PVD) method of thin film deposition by the phenomenon of sputtering. This involves ejecting material from a "target" that is a source onto a "substrate" such as a silicon wafer. Resputtering is re-emission of the deposited material during the deposition process by ion or atom bombardment. Sputtered atoms ejected from the target have a wide energy distribution, typically up to tens of eV (100,000 K).

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