Explore les limites du chauffage ohmique dans le plasma et les avantages et inconvénients de l'injection de faisceau neutre pour le chauffage plasma supplémentaire.
Explore les processus de collision dans les plasmas, y compris le ralentissement du faisceau d'électrons, la résistivité plasmatique et les fréquences de collision.
Introduit la microscopie électronique, couvrant l'organisation pratique, la préparation d'échantillon, l'interaction rayonnement-matière, et les mécanismes de détecteur.
Explore les principes et les applications de la technologie Focused Ion Beam, y compris les interactions ion-solide, le broyage ionique et la nanofabrication.
Couvre les principes et les applications de la microscopie électronique de transmission, y compris l'imagerie, la diffraction, les mécanismes de contraste et les techniques in situ.
Explore les défis et les solutions pour gérer la dose d'électrons en microscopie, en soulignant l'importance d'un suivi et d'une analyse précis des doses.
Couvre la source d'ions ALIS He et son application en microscopie à haute résolution, fournissant des détails de surface et un contraste de matériau remarquables.
Couvre les configurations d'équilibre MHD, y compris les concepts de tokamak et de stellarator, les équations d'équilibre de force et les facteurs de sécurité.
